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抛光的操作—粗拋光

2016-04-28 14:06:00

  金相机械拋光是一项很复杂的过程。粗抛光的目的是消除由细磨留下的磨痕,为精拋光提供更好的条件。粗拋光常采用细帆布、平绒作为金相抛光布。常用的抛光产品有金相抛光剂金刚石研磨膏,磨料的粒度范围在W5-W10。

  抛光时握住试样,使磨面均匀地轻压在旋转的抛光盘上,并随时将试样由中心至边缘往返移动。磨面粗抛约需时2〜5分钟,待磨痕消除后,粗抛即应停止。若抛光时压力过大或抛光时间过长都会导致表层金属的变形。

  在抛光过程中抛光盘上磨料与水分将逐渐散失,为了保证抛光的顺利进行,应随时加以补充。取三角烧瓶一个,内装100ml的蒸馏水并加入相当细度的抛光粉约15g。补充时先匀摇烧瓶,然后滴入少许悬浮液。若抛光盘上仍有足够的磨料,只是水分太少,可以滴入少许蒸馏水以稀释磨料。要注意适当掌握磨料湿度,若水分太多,会减弱抛光磨削作用而增加滚压作用,使试样内较硬的一相呈现浮雕,更能使钢中非金属夹杂物及铸铁中的石墨拖出;如果抛光绒布上磨料的湿度过低,则抛光的润滑作用极差,磨面将变得晦暗面有黑斑,对于极轻金属试样有拖伤磨面助可能,对二相合金中软的一相也有同样的后果。拋光绒布最合适的湿度可以用磨而上水膜蒸发的时间来测定,将磨片提离抛光盘后观察磨面上水膜若在1〜5秒钟内即蒸发掉,则认为是理想的湿度。

  粗抛完成的磨片,磨面已较光滑,但仍暗淡无光。在显微镜下观察可以见到均匀面又细密时磨痕,这些磨痕将由精拋光来消除。经过粗拋光的磨片,虽可大大缩短精抛光的时间,但经验表明:粗抛光对于软的金属材料并不适合,容易产生磨坑,或将组织中软的组成相拖曳出来(例如铅青铜中的铅质点)。所以较软的合金一般不经过粗拋光而直接进行精拋光。

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